Hochenergie-Ionenimplantation
| Titel | Hochenergie-Ionenimplantation |
|---|---|
| Beschreibung | Durch Hochenergie-Implantation am Ionenstrahlzentrum des HZDR lassen sich die Eigenschaften des Grundmaterials ändern. Das Verfahren wird unter anderem in der Halbleitertechnik genutzt. |
| Copyright | HZDR/Matthias Rietschel |
| Bild-Nr. | 48618 |
| Datum | 22.10.2014 |
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