Nano structure induced by ion beam sputtering

Ou, X.; Grenzer, J.; Facsko, S.

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Publikationsrepositorium - Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf

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Nano structure induced by ion beam sputtering

Ou, X.; Grenzer, J.; Facsko, S.

Abstract

Horizontal silicon nanowires arrays on insulator fabricated by ion irradiation and Nano-dot and nano-hole pattern on Si generated by metal incorporation during the ion beam sputtering

Keywords: irradiation; nanopatterning

Beteiligte Forschungsanlagen

Ionenstrahlzentrum DOI: 10.17815/jlsrf-3-159

Verknüpfte Publikationen

DOI: 10.17815/jlsrf-3-159 is cited by this (Id 18272) publication

Sonstiger Vortrag
Forschergruppe 845 project workshop, 07.-08.02.2012, Kaiserslautern, Germany

Permalink: https://www.hzdr.de/publications/Publ-18272

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